Neuartige, großflächige ICP-Anordnung
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Produktnummer:
9783639329001
Bisherige Konzepte und Verfahren dienten dazu, möglichst hohe Plasmadichten zu erzielen, wofür immer höhere Ionisationsraten und damit Energieeinträge notwendig wurden. Trotz hoher Ladungsträgerkonzentrationen bezieht sich die Homogenität des Plasmas bisher nur auf kleine Flächen (100-200 mm Durchmesser). Der aktuelle Markt sieht jedoch Materialbearbeitungen in größeren Dimensionen vor, z.B. Silizium-Wafer bis 300 mm sind längst keine Seltenheit mehr. Mit der in diesem Buch beschriebenen Anordnung einer großflächigen, planaren ICP-Quelle wird ein radialer Verlauf der magnetischen Flussdichte erreicht, der ein ausreichend dichtes Plasma erzeugt, welches in gewissem Abstand eine weitestgehend homogene Dichteverteilung über einen Durchmesser von 300 mm realisieren lässt. Dazu wurde eine Erregerspule verwendet, die mit einem HF-Strom gespeist ein zeitlich veränderliches, magnetisches Feld erzeugt, welches durch die spezielle Positionierung von Ferritkernen geformt und gekoppelt werden kann.
| Autor: | Mahler, Enrico |
|---|---|
| EAN: | 9783639329001 |
| Sprache: | Deutsch |
| Seitenzahl: | 112 |
| Produktart: | kartoniert, broschiert |
| Verlag: | VDM Verlag Dr. Müller |
| Untertitel: | Aufbau und Charakterisierung |
| Schlagworte: | Plasma Plasmatechnik |
